Comparación técnica: molienda versus pulido
Dimensión
Molienda
Pulido
Objetivo del núcleo
Errores geométricos correctos (planitud/redondez), precisión dimensional de control
Mejorar el brillo de la superficie, eliminar los micro-scratches, alcanzar el acabado espejo
Principio de procesamiento
Partículas abrasivas duras (por ejemplo, diamante, carburo de silicio) eliminación de corte
Deformación plástica y mediana flexible (pasta de pulido/rueda) y aplanamiento de microasperidad
Eliminación de material
Level de micrones (áspero/semifinecedor)
Submicrón (<0.1 μm, acabado)
Aspereza de la superficie
RA 0.025 ~ 0.006 μm (ultra precisión hasta nanoescala)
RA 0.01 ~ 0.001 μm (grado óptico <0.5 nm)
Equipo/herramientas
Ruedas/cinturones/discos (tamaño de grano abrasivo combinado y dureza)
Ruedas de pulido (lana/poliuretano), Pedras de pulido (microposizadores de alúmina/óxido de cromo)
Parámetros de proceso
Alta presión (0.01 ~ 0.1MPa), baja velocidad (10 ~ 30m/s)
Baja presión (<0.01MPA), alta velocidad (30 ~ 100m/s)
Aplicaciones típicas
Piezas mecánicas de precisión, preprocesamiento de obleas de semiconductores, óptico del elemento óptico.
Lentes ópticas, piezas decorativas (por ejemplo, fundas para teléfonos), acabado de moho de alta precisión
Diferencias clave